Studi Fabrikasi Isolator Silikon Dioksida (SiO2) Berbasis Lapisan Tipis Menggunakan Teknik Plasma Glow Discharge (Halaman 32 s.d. 35)
Jurnal Fisika Indonesia
doi 10.22146/jfi.24421
Full Text
Open PDFAbstract
Available in full text
Date
April 22, 2014
Authors
Publisher
Universitas Gadjah Mada