Studi Fabrikasi Isolator Silikon Dioksida (SiO2) Berbasis Lapisan Tipis Menggunakan Teknik Plasma Glow Discharge (Halaman 32 s.d. 35)

Jurnal Fisika Indonesia
doi 10.22146/jfi.24421
Full Text
Abstract

Available in full text

Date
Authors
Publisher

Universitas Gadjah Mada


Related search