Studi Fabrikasi Isolator Silikon Dioksida (SiO2) Berbasis Lapisan Tipis Menggunakan Teknik Plasma Glow Discharge (Halaman 32 s.d. 35)

Jurnal Fisika Indonesia

doi 10.22146/jfi.24421

Full Text

Abstract

Available in

Date

Authors

Publisher

Universitas Gadjah Mada


Related search