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COMPORTEMENT PHYSICO-CHIMIQUE DE Si3N4 OBTENU PAR LPCVD SOUMIS a DES FLUX RADIATIFS INTENSES
Le Journal de Physique Colloques
doi 10.1051/jphyscol:1989542
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Abstract
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Date
May 1, 1989
Authors
A. WANG
D. THENEGAL
C. ROYERE
C. DUPUY
B. ARMAS
Publisher
EDP Sciences
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