(PDF) Influence De La Technique De Dépôt d'Isolant Et Des

Influence De La Technique De Dépôt d'Isolant Et Des Modes De Décapage Du Semiconducteur Sur Les Propriétés Électriques De Structures Métal-Al 2o3-InP

Revue de Physique Appliquée

doi 10.1051/rphysap:019830018012076900

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Abstract

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Date

January 1, 1983

Authors

P. Viktorovitch

Publisher

EDP Sciences

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