Формирование NCL-Si В Аморфной Матрице a-SiO-=sub=-X-=/Sub=- : H, Расположенной Вблизи Анода И На Катоде, С Помощью Модулированной По Времени DC-плазмы С (SiH_4-Ar-O-=SUB=-2-=/SUB=-)-газовой Фазой (C-=sub=-O_2-=/Sub=-=21.5 Мол%)
Журнал технической физики
doi 10.21883/ftp.2019.11.48453.9206
Full Text
Open PDFAbstract
Available in full text
Date
January 1, 2019
Authors
Publisher
Ioffe Institute Russian Academy of Sciences