(PDF) Surface Stress During Silicon Oxidation Using Plasma

Surface Stress During Silicon Oxidation Using Plasma of Krypton and Oxygen Mixture.

SHINKU

doi 10.3131/jvsj.44.206

Full Text

Abstract

Available in full text

Date

January 1, 2001

Authors

Akiko N. ITAKURA

Tetsuya NARUSHIMA

Masahiro KITAJIMA

Publisher

The Vacuum Society of Japan

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